眼鏡片清洗對(duì)水質(zhì)的要求特別嚴(yán)格，否則會(huì)影響實(shí)驗(yàn)的準(zhǔn)確性，造成不必要的損失。眼鏡片清洗用超純水機(jī)的工藝比較復(fù)雜主要采用反滲透技術(shù)，可有效的去除水中的導(dǎo)電介質(zhì)，電阻率可達(dá)到18.2MΩ*cm。產(chǎn)水水質(zhì)符合《中國(guó)國(guó)家試驗(yàn)室用水規(guī)格(GB6682-92)》。

     眼鏡片清洗用超純水機(jī)水質(zhì)監(jiān)測(cè)

一般情況下，純水是以電導(dǎo)率，超純水是以電阻率來(lái)計(jì)量。電導(dǎo)率的計(jì)算公式如下：X是電導(dǎo)率，F(xiàn)是法拉第常數(shù)，Ci是某種離子濃度，Zi是離子的電荷數(shù)，Ui指離子遷移率，公式：X=FΣCiZiUi理論上，完全不含離子的超純水在25℃時(shí)電導(dǎo)率為0.055μS/cm。電阻值是電導(dǎo)率的倒數(shù)。那么R=1/X，1/0.055=18.1818約為18.2MΩ.cm。

一般情況下我們無(wú)法在離線情況下精確測(cè)量超純水的電阻率或者電導(dǎo)率。因?yàn)楫?dāng)超純水暴露在外界環(huán)境中時(shí)，會(huì)被外界環(huán)境污染。實(shí)驗(yàn)室里的空氣中含有大量的離子，這些離子可以進(jìn)入超純水，從而影響超純水的水質(zhì)。另外，測(cè)量電導(dǎo)率所用到的儀器(燒杯，電阻率儀/探針)也會(huì)帶入離子污染物。正如電導(dǎo)率的計(jì)算公式中所示，任何離子的增加都會(huì)影響電導(dǎo)率值，因?yàn)殡妼?dǎo)率離子的種類(lèi)和其所帶電荷成正比。

      眼鏡片清洗用超純水機(jī)工藝配置

普及型工藝：不銹鋼濾網(wǎng)過(guò)濾器→PP精濾→AC活性炭→RO反滲透→IX純化

常規(guī)型工藝：不銹鋼濾網(wǎng)過(guò)濾器→PP精濾→AC活性炭→UF超濾→RO反滲透→IX離子

標(biāo)準(zhǔn)型工藝：不銹鋼濾網(wǎng)過(guò)濾器→PP精濾→AC活性炭→UF超濾→RO反滲透→RO反滲透→IX純化

增強(qiáng)型工藝：不銹鋼濾網(wǎng)過(guò)濾器→PP精濾→AC活性炭→UF超濾→RO反滲透→CEDI

      眼鏡片清洗用超純水機(jī)的技術(shù)指標(biāo)

單機(jī)出力：0.25M3/H-120M3/H(根據(jù)客戶需求自由定制)

脫鹽率：反滲透系統(tǒng)>98%(根據(jù)客戶需求定制單級(jí)或雙級(jí))

操作壓力：1Mpa-1.2Mpa

回收率：50%-80%

產(chǎn)品出水電導(dǎo)率：<10μs/CM(原水<500μs/CM)

出水水質(zhì)達(dá)到：《國(guó)家生活飲用水標(biāo)準(zhǔn)》、《世界衛(wèi)生組織直飲水標(biāo)準(zhǔn)》

      眼鏡片清洗用超純水機(jī)的工作原理

通常由原水預(yù)處理、反滲透、純化處理系統(tǒng)三部分組成。預(yù)處理的目的主要是使原水達(dá)到反滲透膜分離組件的進(jìn)水要求，保證反滲透的穩(wěn)定運(yùn)行。反滲透膜系統(tǒng)是一次性去除原水中98%以上離子、有機(jī)物及100%微生物(理論上)最經(jīng)濟(jì)高效的純化方法。純化處理系統(tǒng)通過(guò)多種集成技術(shù)進(jìn)一步去除水中尚存的微量離子、有機(jī)物等雜質(zhì)，以滿足不同用途的最終水質(zhì)指標(biāo)要求。

1、原水處理系統(tǒng)：預(yù)處理系統(tǒng)通常由聚丙烯纖維(PP)過(guò)濾器和活性炭(AC)過(guò)濾器組成。PP濾芯可高效去除原水中5μm以上的機(jī)械顆粒雜質(zhì)、鐵銹及大的膠狀物等污染物，保護(hù)后續(xù)過(guò)濾器，其特點(diǎn)是納污量大，價(jià)格低廉。AC活性炭濾芯可高效吸附原水中余氯和部分有機(jī)物、膠體，保護(hù)聚酰胺反滲透復(fù)合膜免遭余氯氧化。

2、反滲透(RO)純化系統(tǒng)：是以壓力差為推動(dòng)力的一種高新膜分離技術(shù)，具有一次分離度高、無(wú)相變、簡(jiǎn)單高效的特點(diǎn)。在高于原水滲透壓的操作壓力下，水分子可反滲透通過(guò)RO半透膜，產(chǎn)出純水，而原水中的大量無(wú)機(jī)離子、有機(jī)物、膠體、微生物、熱原等被RO膜截留。眼鏡片清洗用超純水機(jī)主要用于半導(dǎo)體材料的清洗，厚膜和薄膜電路，印刷電路等高精密等行業(yè)。