隨著華為世界市場的不斷擴(kuò)展，中國的電子行業(yè)也在如火如荼的高速發(fā)展，而在電子行業(yè)的生產(chǎn)以及研發(fā)過程中，都不可缺少超純水的使用，滲源電子級超純水設(shè)備則是為國內(nèi)電子行業(yè)的生產(chǎn)與研發(fā)而誕生的超純水系統(tǒng)。水質(zhì)能完全符合國內(nèi)電子級超純水行業(yè)規(guī)定，特別是對金屬離子的控制，能做到十分的精密，這一點(diǎn)就在于使用進(jìn)口高端的EDI電滲析技術(shù)，能滿足國內(nèi)的任何一家電子企業(yè)的生產(chǎn)與使用，而且價格遠(yuǎn)低于進(jìn)口超純水系統(tǒng)，真正的性價比之王。

在電子工業(yè)主要是線路板、電子元器件生產(chǎn)都需要使用去離子水/超純水，這類產(chǎn)品精密度非常高，在生產(chǎn)過程中的重要度也在不斷的提升，已經(jīng)慢慢成為能影響產(chǎn)品生產(chǎn)質(zhì)量的重要因素。一款好的超純水系統(tǒng)，能將生產(chǎn)線路板、電子元器件生產(chǎn)過程中直接影響到實驗結(jié)果和生產(chǎn)結(jié)果的金屬離子降到最低，使最終生產(chǎn)品質(zhì)得到不錯的提升。

在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬（K、Na等）會使絕緣膜耐壓不良，重金屬（Au、Ag、Cu等）會使PN結(jié)耐壓降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）會使N型半導(dǎo)體特性惡化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）會使P型半導(dǎo)體特性惡化，水中細(xì)菌高溫碳化后的磷（約占灰分的20-50%）會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，水中的顆粒（包括細(xì)菌）如吸附在硅片表面，就會引起電路短路或特性變差。

集成電路（DRAM）對純水水質(zhì)的要求：

電子超純水設(shè)備是保證電子產(chǎn)品質(zhì)量安全促進(jìn)電子業(yè)健康運(yùn)行的依據(jù)，電子超純水設(shè)備適用集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工，滲源的電子工業(yè)超純水設(shè)備廣泛的用于在電子業(yè)中，而且在電子業(yè)中的地位更是蒸蒸日上成為業(yè)內(nèi)發(fā)展的重要推手。

電子行業(yè)超純水特點(diǎn)：

目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。

電子行業(yè)超純水中除了水分子(H20)外，幾乎沒有什么雜質(zhì)，更沒有細(xì)菌、病毒、含氯二惡英等有機(jī)物，當(dāng)然也沒有人體所需的礦物質(zhì)微量元素。這種級別的超純水是一般工藝很難達(dá)到的程度，如水的電阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm則稱為超純水。目前，超純水設(shè)備的方法通常采用反滲透，去離子或電滲析(EDI)等工藝進(jìn)行制備。

中國電子行業(yè)超純水國家標(biāo)：

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